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FFU適用于哪些無(wú)塵室
日期：2024-12-08 20:14
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摘要：
FFU適用于半導(dǎo)體、電子、平板顯示器和磁盤驅(qū)動(dòng)器的廠家及光學(xué)、生物工業(yè)及其它對(duì)空氣中污染有嚴(yán)格控制要求的地方。以獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)合理的價(jià)格迅速占領(lǐng)市場(chǎng)。 高度低，系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)可節(jié)省氣室空間。輕量化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可符合各廠家的 Grid 系統(tǒng)安裝，更可依 Grid 系統(tǒng)，變更 FFU 結(jié)構(gòu)尺寸設(shè)計(jì)。內(nèi)部裝置擴(kuò)散板．風(fēng)壓擴(kuò)散均勻，出風(fēng)面風(fēng)速平均穩(wěn)定。金屬結(jié)構(gòu)順風(fēng)道內(nèi)膽，永不老化．杜絕二次污染產(chǎn)生，表面光滑，風(fēng)阻低．隔音效果優(yōu)良。特殊入風(fēng)口，風(fēng)道設(shè)計(jì)，降低壓損與噪音的產(chǎn)生。馬達(dá)效率高，系統(tǒng)消耗電流低，節(jié)省能源成本。單相馬達(dá)，提供三段式調(diào)速，可依實(shí)際狀況調(diào)高或降低風(fēng)速與風(fēng)量。
無(wú)塵車間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。
例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。
此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以**。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)*佳濕度范圍為35—45%。